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光照射裝置
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點(diǎn)光源曝光
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變壓型電源供應(yīng)器
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超高壓短弧汞燈
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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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uv固化裝置
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紫外可見光光度計(jì)
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)
特長
非接觸、非破壞可進(jìn)行厚度測量
反射光學(xué)系統(tǒng)（可以通過一方的接觸來測量）
高速性（*快5ks）且可實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)
實(shí)現(xiàn)高的穩(wěn)定性（重復(fù)精度0.01%）
粗枝大葉
可以對(duì)應(yīng)任何距離
對(duì)應(yīng)多層結(jié)構(gòu)（*大5層）
內(nèi)置NG數(shù)據(jù)的功能
可以測量距離（形狀）（組入傳感器的附屬選項(xiàng)）*
*根據(jù)測量范圍內(nèi)的光學(xué)距離測量
幅広い範(fàn)囲の膜厚に対応するとともに、高い波長分解能を?qū)g現(xiàn)。
大塚電子獨(dú)自の技術(shù)をコンパクトボディに詰め込みました。
移動(dòng)する測定対象でも正確なピッチで測れるので、
工場の生産ラインにも*適です。
約φ20μmという微小スポットにより、
さまざまな表面狀態(tài)のサンプルにおいても、厚み測定が可能です。
*大200mmまで離れた位置からでも測定可能なため、
目的や用途に応じた測定環(huán)境を構(gòu)築可能です。
- 厚み測定（５層）
- 各種の厚膜部材厚み
仕様
＊1 ： 測定條件および解析條件により*小サンプリング周期は異なります。
＊2 ： 製品出荷基準(zhǔn)の保証値スペックとなり、當(dāng)初基準(zhǔn)サンプルAirGap約300μmと
約1000μm測定時(shí)の相対標(biāo)準(zhǔn)偏差（ n = 20 ）
＊3 ： WD50mmプローブ仕様時(shí)の設(shè)計(jì)値
＊4 ： 特別仕様
＊5 ： 薄膜測定時(shí)に使用
※CE取得品はSF-3/300、SF-3/1300
基本構(gòu)成
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サポートウェーハ付き仮貼り合わせウェーハ |
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マッピング結(jié)果 研削後300mmウェーハシリコン厚み |
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BB
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