熱門搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
CEDAR思達(dá)
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見光光度計
產(chǎn)品展示
-
UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光v
-
UCU-S20SL018-M1 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光UCU-S20SL018-M1 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光
-
UCU-S30SL07-M1 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光UCU-S30SL07-M1 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光UCU-S30SL07-M1 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置 特征：可以調(diào)整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應(yīng)用范圍：液晶及光培養(yǎng)物質(zhì)實(shí)驗(yàn)用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上） 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置
-
特征：可以調(diào)整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應(yīng)用范圍：液晶及光培養(yǎng)物質(zhì)實(shí)驗(yàn)用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上）蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 LTPS LCD用掃描**曝光系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 LTPS LCD用掃描**曝光系統(tǒng)
-
特征：帶有高功率UV照度和優(yōu)良的均勻度的6時代mobileLCD用掃描曝光機(jī) 適用中壓UV還有把光掩膜和吸附曝光薄膜的狀態(tài)下通過掃描散射曝光確保高品質(zhì)的反轉(zhuǎn)曝光特性。 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 光掩膜用掃描UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 光掩膜用掃描UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
特征：寬度1400mm以上的薄膜上做奈米壓印或以微細(xì)金型成型模具后，通過UV假固化及UV本固化還有確保高生產(chǎn)效益和高均勻度（正負(fù)5%一下），適用在高品質(zhì)顯示光學(xué)薄膜及所屬領(lǐng)域制造。有除去氮?dú)猓∟2）的技能。 顯示器用薄膜(透鏡膜、棱鏡膜。曝光膜）&再歸反射薄膜的UV照射或UV固化 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜再歸反射用UV固化裝置
-
為的強(qiáng)化LCD BLU薄膜用的棱鏡、微tou鏡膜的信賴性。高生產(chǎn)性及高UV均勻度可以適用在光譜1400mm以上的PET薄膜 高品質(zhì)的顯示薄膜（透鏡膜、棱鏡膜），PET&TAC薄膜，ITO薄膜的背涂層，硬質(zhì)涂層，防眩光涂層。蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置
-
蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 引線框架防濕涂抹用UV固化系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 引線框架防濕涂抹用UV固化系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 引線框架防濕涂抹用UV固化系統(tǒng)
-
特征：適用于有色或涂抹厚的UV固化劑。可以維持UV均勻度及熱控制 固化晶圓切割交代的。切割后為了容易揭開交代完全**膠帶的黏著力。 應(yīng)用范圍：PDP或所有電子部件引線框架的連接部上血藥防濕防塵的工程。 晶圓切割膠帶**用。可以使用UV晶圓。可以除去氮?dú)猓∟2）蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 晶圓切割膠帶**用UV裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 晶圓切割膠帶**用UV裝置
